По словам Владислава Овчинского, руководителя Департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы (входит в Комплекс экономической политики и имущественно-земельных отношений), в столице проводятся исследования с целью создания установки, которая позволит изготавливать микросхемы с топологическими нормами от 28 нм (а в перспективе и менее).
Исследования, точные сроки и условия проведения которых не раскрываются, ведут резиденты особой экономической зоны «Технополис „Москва“» и учёные Национального исследовательского университета «МИЭТ».
Результатом их деятельности должны стать создание технологии литографирования и разработка установки-литографа для изготовления СБИС на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения.
В случае успешного завершения работ следующим этапом сотрудничества разработчиков будет опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки.
