Экспорт оборудования для производства микросхем в КНР в последние годы и особенно месяцы чрезвычайно затруднён: США, Япония и Голландия, основные поставщики такого рода техники, вводят всё новые ограничительные меры с явно декларируемой целью — не допустить самостоятельного освоения Китаем наиболее передовых технологических процессов в этой области. Так, ещё в начале 2021 г. лидер Национальной комиссии по безопасности в области искусственного интеллекта Эрик Шмидт (Eric Schmidt), бывший глава Google, недвусмысленно рекомендовал Конгрессу «сдерживать возможности Китая по производству промышленного оборудования, необходимого для выпуска передовых вычислительных микросхем». Нынешним же летом голландские власти ввели новые экспортные рестрикции, намереваясь лишить КНР доступа не только к наиболее современным EUV-литографам, на которых производятся СБИС по технологическим нормам 5 нм и менее, но и к машинам более раннего поколения, реализующим технологию DUV (примерно от 28 нм до 7 нм), до сих пор свободно поставлявшимся в Китай.
Тем не менее микропроцессорная отрасль КНР уже набрала настолько серьёзные обороты, что обрушить её новыми запретами на поставки литографических машин уже вряд ли удастся. В компании TrendForce составили прогноз динамики присутствия Китая на мировом рынке полупроводников, пересчитав общий объём изготавливаемых на чипмейкерских предприятиях микросхем на условные стандартные 12-дюймовые пластины-заготовки. В 2022 г., по оценке аналитиков, на КНР приходилось 24% глобального потенциала выпуска СБИС на таких пластинах (12-inch wafer production capacity). И даже если допустить, что новых DUV-машин китайские чипмейкеры больше не получат, к 2026 г. доля их присутствия на этом рынке всё равно вырастет до 26% — просто за счёт более интенсивного освоения зрелых технологических процессов. Если же хотя бы частично экспорт голландских DUV-литографов окажется разрешён, указанная доля имеет все шансы вырасти к тому же 2026-му до 28%.
Для голландской компании ASML, ведущего в мире поставщика чипмейкерского оборудования, продавливаемые со стороны США рестрикции крайне невыгодны: китайские заказчики обеспечивают немалую долю её выручки. Эксперты допускают, что одним из способов введения пресловутых рестрикций может стать не физический запрет на поставки новых литографов, а принудительное ограничение их возможности реализовывать технологические процессы масштабами менее 28 нм — на программном уровне. Таким образом удастся избежать необходимости испрашивать у контролирующих органов лицензию на экспорт. В этом случае в распоряжении КНР окажутся вполне функциональные DUV-системы с предельным разрешением 7 нм, для достижения которого потребуется лишь своими силами заменить программную прошивку, что, надо полагать, устроит и поставщика, и покупателей. Да и наложенные США ограничения останутся в этом случае формально соблюдены — по крайней мере, в момент передачи оборудования от изготовителя клиенту.
